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マスクレス露光装置は、任意の形状をフォトマスクなしで直接描画する装置です。光源は405nmLEDで、露光範囲100o×100o、最少線幅1μmの描画が可能です。段差計は、150oまでの領域でステッチングなしで測定ができます。
その他にも、精密温湿度調整付きのイエロークリーンブースは、フォトリソグラフィーに関する一連の作業(基板洗浄、各種レジスト塗布、露光、現像、アッシング、エッチング)に利用できます。
小型2源RFスパッタ装置は、スパッタ電源RF300W、ターゲットサイズはφ3インチが2基設置可能で、Au、Nb、Tiなどを成膜することができます。

仕様

マスクレス露光装置(ナノシステムソリューションズ  DL-1000/IMC)
段差計(KLA Tencor P7)
精密温度調整機能付クリーンブース
マスクアライナー(ミカサ社製MA-10)
スピンコーター(ミカサ社製MS-A100)
小型2源RFスパッタ装置(デポダウン)(クライオバック)

担当者

山本浩史室長
青山正樹技術職員
高田紀子技術職員
0564-55-7210(高田)
代表[ micro@ims.ac.jp ]

[支援形態/単価]

スピンコーター・マスクアライナー


成果
公開
大学
官公庁
協力研究
施設利用 無料
技術代行
民間 施設利用 3900円/時間
技術代行
所内 施設利用 消耗品実費
成果
非公開
民間 施設利用 7700円/時間
技術代行

  −: 支援なし