マスクレス露光装置は、任意の形状をフォトマスクなしで直接描画する装置です。光源は405nmLEDで、露光範囲100㎜×100㎜、最少線幅1μmの描画が可能です。段差計は、150㎜までの領域でステッチングなしで測定ができます。
その他にも、精密温湿度調整付きのイエロークリーンブースは、フォトリソグラフィーに関する一連の作業(基板洗浄、各種レジスト塗布、露光、現像、アッシング、エッチング)に利用できます。
マスクレス露光装置(ナノシステムソリューションズ DL-1000/IMC)
段差計(KLA Tencor P7)
精密温度調整機能付クリーンブース
マスクアライナー(ミカサ社製MA-10)
スピンコーター(ミカサ社製MS-A100)
山本浩史室長
近藤聖彦主任技師 [kondou@ims.ac.jp ]
高田紀子技術員[takada@ims.ac.jp]
木村幸代技術員 [s-kimura@ims.ac.jp ]
石川晶子技術支援員
0564-55-7492(高田、木村)
代表[ micro@ims.ac.jp ]
[支援形態/単価]
成果 公開 |
大学 官公庁 |
協力研究 | − |
施設利用 | 無料 | ||
技術代行 | − | ||
民間 | 施設利用 | 3100円/時間 | |
技術代行 | − | ||
所内 | 施設利用 | 消耗品実費 | |
成果 非公開 |
民間 | 施設利用 | 6100円/時間 |
技術代行 | − |
−: 支援なし
技術支援料 ※成果公開を行う場合は2分の1とする。
区分 | 1時間当たりの技術支援料 |
技術開発 | 13200円/時間 |
設計製作 | 10800円/時間 |
技術補助 | 5600円/時間 |